等离子体广泛的应用在隐形眼镜的生产中。等离子用来在镀膜前活化镜片材料，也可用来侵蚀表面，暴露出下面的表层。在这两个应用中等离子都可以替代难用的、耗时的、昂贵的湿化学方法。 用于制造隐形眼镜的玻璃带有铸型时产生的聚合物污染层和/或脱模剂。
产品货号：AS-M 产地：美国 价格：询价 点击数：1547 商家询价
  薄膜/沉积/测量（测定）（压力、面积、时间）/性能研究/薄膜制备/转移/张力测量/分析/吸附/解吸/人工膜/单分子/纳米、微米域制造/生物表面活性/有机发光二极管/单分子光谱/基于Windows操作系统LANGMUIR-BLODGETT膜沉积分析系统，LB膜沉积系统，LB膜分析仪
产品货号：LB20-DCLANGMUIR-BLODGETT膜沉积分析系 产地：原装进口LANGMUIR-BLODGET 价格：询价 点击数：2636 商家询价
奥普特TM系列视频成像（VCA ）接触角测量仪采用轻量化的设计、组装方便和新的基于Windows™标准的用户友好型软件，以创建一个即精准容又容易使用的接触角测量仪系统。奥普特TM系列视频成像（VCA ）接触角测量仪系统适用于研究或研发中心的质量控制部门
产品货号：VCA 产地：美国 价格：询价 点击数：3221 商家询价
  产品介绍：BM8-II反应离子刻蚀（RIE）/沉积（PEVCD）等离子处理系统、反应离子刻蚀（RIE）及等离子体增强化学气相沉积 （PEVCD）系统用于反应离子刻蚀（RIE）及等离子体增强化学气相沉积 （PEVCD）的等离子处理系统。BM8-II是一款定义反应离子
产品货号：BM8-II反应离子刻蚀（RIE）/沉积（PEVCD）等离子 产地：原装进口反应离子刻蚀（RIE）/沉积（P 价格：询价 点击数：2108 商家询价
  产品描述：台式反应离子刻蚀(RIE)系统关键字：台式反应离子刻蚀系统，台式反应离子刻蚀(RIE)系统，圆筒型腔体台式反应离子刻蚀(RIE)系统VHF系列圆筒型腔体台式反应离子刻蚀(RIE)系统定义了一个新的台式反应离子刻蚀(RIE)系统圆筒型等离子处理方式。 
产品货号：VHF 产地：原装进口台式反应离子刻蚀(RIE)系统， 价格：询价 点击数：1618 商家询价
光学张力计，接触角测量仪，自由能、湿润、扩张、吸收、吸附、清洁度、表面不均匀性、界面流变TL光学接触角测量系统用于测量接触角、表面自由能及液滴体积的成套设备。TL光学接触角测量系统也可用于测量表面张力和界面张力（需结合选装配套软件并用）。可供选择的液滴
产品货号：VCA-TL 产地：原装进口光学张力计，接触角测量仪，自由能 价格：询价 点击数：2467 商家询价
  可编程匀胶机、旋转涂布机、涂层仪、旋涂仪、涂膜仪、涂覆仪、甩胶机、Programmable Spin Coater 薄膜沉积、粗饲料研究、资料控制、半导体薄膜、金属及玻璃、有机薄膜制备，光学镀膜及磁膜、液固界面镀膜、半导体、化工材料、硅片、晶圆片、光
产品货号：Spin-X 产地：原装进口可编程匀胶机、旋转涂布机、涂层仪 价格：询价 点击数：3522 商家询价
等离子工艺处理的研发需要多功能且可靠的等离子处理系统。为了满足等离子研究日新月异的要求，用户选购的系统设备满足大范围的等离子工艺参数需要，工艺验证需要极其高的可重复性，必须方便改造用于新的等离子工艺需要。我们相信BM8-II反应离子刻蚀（RIE）/沉积（PEVC
产品货号：BM8-II 产地：原装进口反应离子刻蚀（RIE）/沉积（P 价格：询价 点击数：2104 商家询价
产品描述：台式紧凑型等离子清洗机、小型等离子清洗机、微创伤纳米级等离子清洗机、GPC-102 A （替代 Harrick PDC-32G-2及PDC-FMG-2 PlasmaFlo、EQ-PDC-32G等离子清洗机）是一款台式紧凑型等离子清洗机，具有体积仅为台式烤箱大小、非破坏性
产品货号：GPC-102 A 产地：美国 价格：询价 点击数：2184 商家询价
PDMS芯片键合仪、PDMS芯片等离子键合机、PDMS微流控芯片氧等离子体键合仪GPC-102 A （替代 Harrick PDC-32G-2及PDC-FMG-2 PlasmaFlo、EQ-PDC-32G PDMS芯片键合仪、PDMS芯片等离子键合机、PDMS微流控芯片氧等离子体键合仪）是一
产品货号：GPC-102 A 产地：美国 价格：询价 点击数：1769 商家询价